Как известно, существует два подхода к синтезу пленок графена большой площади. Первый подход заключается в химическом осаждении из газовой фазы, для которого необходимы высокая температура осаждения и специальная подложка (в ряде случаев монокристаллическая). Второй подход заключается в нанесении графена из жидкой фазы. Первый подход позволяет получить наноэлектронные устройства с необычайно высокой подвижностью носителей заряда, однако этот метод слишком дорог для промышленного производства. Второй же подход, несмотря на более низкую подвижность зарядов, куда более дешев, а значит, именно он с большей долей вероятности найдет применение в промышленном производстве.

Международный коллектив авторов из Великобритании и США предложил свой метод нанесения пленок моно- и многослойного графена из жидкой фазы (рис.1). Сначала на подложку SiO₂/Si был нанесен раствор оксида графена, который распределялся по подложке в течение некоторого времени, после чего подложка приводилась во вращение, и над центром подложки продувался азот. После того как пленка оксида графена была нанесена, она может быть перенесена с помощью слоя полиметилметакрилата на любую подходящую подложку, подобно тому, как это было описано ранее, а затем восстановлена до графена (рис.2). Варьируя скорость вращения подложки, удается получить пленку оксида графена, состоящую из различного числа слоев.

Полученные пленки обладают максимальной прозрачностью 96 % в случае одно- и двухслойных слоев графена. Наименьшее поверхностное сопротивление 600 Ом/ед² было достигнуто в случае пленки, прозрачностью 40% и толщиной 30 нм (рис.3). Наилучшие оптоэлектронные свойства были обнаружены в случае пленок толщиной 5 мм (поверхностное сопротивление 2.4 кОм/ед², прозрачность 81%) и 15 мм (поверхностное сопротивление 1 кОм/ед², прозрачность 70%), что значительно меньше, чем в случае пленок графена, полученных методом химического осаждения из газовой фазы.